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氮化硅立式炉硬件改造提升颗粒表现
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摘要
氮化硅工艺的特点以及立式炉各个系统的工作原理。分析氮化硅立式炉颗粒频繁超标的问题,通过设备改造来提升机台颗粒表现,同时总结了近几年的设备使用以及维护经验。
作者
彭新华
潘昭海
江冰松
尚可
机构地区
新型功率半导体器件国家重点实验室
出处
《设备管理与维修》
2017年第12期146-148,共3页
Plant Maintenance Engineering
关键词
氮化硅
立式炉
颗粒
底座
LPCVD
分类号
TN403 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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设备管理与维修
2017年 第12期
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