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超结中国专利技术综述
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摘要
超结结构突破了传统功率MOS器件的理论极限,被誉为功率MOS器件的里程碑器件。本文对超结领域中国的相关专利技术进行分析,从申请趋势、主要申请人、法律状态、技术效果等多个角度进行深入挖掘,梳理超结技术的现状及发展趋势。
作者
周天微
王琳
机构地区
国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心
出处
《电子世界》
2017年第18期73-73,共1页
Electronics World
关键词
超结
法律状态
技术效果
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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