一种室温下沉积原子层的新方法

科罗拉多大学博尔德分校的研究人员开发了一种在室温下合成超薄材料的新方法——这种工艺方法需要800℃或更高的温度下创建一个之前难以实现的主机薄膜微电子学的途径，这通过常规方法生产是不可能的，因为许多组件在遭受高温时会失去关键功能。