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三星公布EUV技术7nm、11nm LPP工艺,明年开始投产
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摘要
日前三星电子正式宣布,其将11nm FinFET工艺技术(1lnmLPP,LowPowerPlus)提上研发日程,预计将于明年推出首款采用该工艺的芯片。
出处
《中国集成电路》
2017年第10期5-5,共1页
China lntegrated Circuit
关键词
UV技术
三星电子
工艺
LPP
投产
FINFET
芯片
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
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中国集成电路
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