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第三代半导体:“虚拟生长”引发充电革命
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摘要
"要长出高质量的碳化硅(SiC),我们需要对生产工艺进行设计、调试和优化。"晶体材料国家重点实验室教授陈秀芳带领的课题组有一项重要任务——通过物理气相沉积法生长出高质量、大尺寸的SiC单晶材料。"但实际的生长耗时、耗料,可能也不稳定,通过计算机模拟‘虚拟生长’过程,可提前获知温度、生长速率等信息,"陈秀芳说。这个方法就像"战争推演系统"和实打实地实战一样奏效。
出处
《半导体信息》
2017年第5期11-12,共2页
Semiconductor Information
关键词
生长速率
虚拟
半导体
第三代
物理气相沉积法
国家重点实验室
充电
引发
分类号
TQ638 [化学工程—精细化工]
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