未来节点的缺陷减少要求

随着半导体工业向10nm节点及更高的先进光刻技术的转移，减少缺陷的标准最佳实践将有所不足。污染水平将需要以万亿分之一（ppt）来衡最。这一级别的缺陷减少需要在分析工具、质量控制（QC）和质量工程（QE）方面进行改进。