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基于半导体工艺的设备调平技术
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摘要
半导体工艺基本流程和要求,调平在各主要工艺中的必要性。调平分为调与测2个步骤,几种常用测平工具和方法和在工艺调平中的应用。
作者
蔡颖岚
邓学文
全晓辉
杨滨
机构地区
重庆声光电有限公司
出处
《设备管理与维修》
2018年第1期46-47,共2页
Plant Maintenance Engineering
关键词
半导体工艺
调平
CCD
水平仪
千分表
准直仪
分类号
TP317 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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设备管理与维修
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