仿真研究推进纳米光刻工艺的升级

清华大学摩擦学国家重点实验室正使用数值仿真探索一种新型半导体光刻工艺——旋转式近场光刻技术。研究人员借助COMSOL Multiphysics模拟了新型光刻技术中等离子飞行头的飞行过程，并对其飞行的稳定性展开了研究，最终设计出一款高性能的飞行头，用于实现精准的纳米级加工。