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碳化硅材料特性及其应用浅析
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4
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摘要
以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的宽禁带半导体材料,被称为第3代半导体材料。与第1代、第2代半导体材料相比较,SiC具有高热导率、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高键合能等优点。
作者
王增泽
机构地区
国家纳米科学中心
出处
《新材料产业》
2018年第1期47-51,共5页
Advanced Materials Industry
关键词
碳化硅
材料特性
宽禁带半导体材料
应用
高热导率
击穿场强
漂移速率
氮化镓
分类号
TQ163.4 [化学工程—高温制品工业]
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