氮化硅反应溅射源的设计及其薄膜工艺实现

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摘要本文介绍了一种光盘用氮化硅薄膜溅射源,旋转磁场加入到静磁场中以调节靶表面空间的磁场分布,降低了氮化硅在靶表面的沉积,同时提高了靶材的利用率。配合脉冲直流电源,有效地避免了阳极丢失和电弧放电现象。

作者刘涛

机构地区东莞宏威数码机械有限公司

出处《记录媒体技术》 2008年第6期43-45,共3页 China Mediatech

关键词氮化硅膜反应溅射直流电源电弧放电旋转磁场射源磁场分布靶材射频溅射结构陶瓷材料

参考文献3

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记录媒体技术

2008年第6期

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