氧化锡基低辐射玻璃的辐射率改善途径分析

掺杂F的氧化锡薄膜（FTO）是一种透明导电的氧化物薄膜，也是在线低辐射玻璃（Low—E）的功能膜，如何进一步降低其辐射率是一个重要课题。本文分析了辐射率的影响因素，对降低辐射率可以采取的措施进行了分析。分析表明，表面电阻是最主要影响因素，为了使辐射率ε小于0．1，必须使方块电阻R口小于8．1Ω／□；通过优化掺杂、改善膜系匹配、光辅助CVD等方法进一步提高结晶质量、表面平整度和堆积密度，可以进一步降低辐射率，优化在线Low—E玻璃的性能。