期刊文献+

openGL中基于位图填充的图案掩模分析与设计

Pattern Mask Analysis and Design Based on Bitmap Filling in openGL
下载PDF
导出
摘要 open GL中多边形的填充主要包括色彩填充、纹理插值图案填充和位图图案填充,主要对位图图案的填充方式进行讨论,掩模的设计是位图填充中的关键,重点讨论掩模的构成,并以实例介绍的掩模的设计方法,分析了图案填充的应用效果。 The polygon filling in openGL mainly includes color filling, texture interpolation pattern filling and bitmap pattern filling. This paper mainly discusses the filling mode of bitmap pattern, and the design of mask is the key in bitmap filling. The composition of mask is discussed emphatically, and the application effect of pattern filling is analyzed with the method of mask design introduced by an example.
作者 杨薇 李燕 Yang Wei, Li Yan(School of Information, Baoshan University, Baoshan Yunnan 67800)
出处 《保山学院学报》 2018年第2期73-76,共4页 JOURNAL OF BAOSHAN UNIVERSITY
关键词 位图填充 图案掩模 bitmap filling pattern mask
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1施瑞奈尔;李军.OpenGL编程指南[M]北京:机械工业出版社,2010.
  • 2RichardS Wright;Benjamin Lipchak;徐波.OpenGL超级宝典[M]北京:人民邮电出版社,2005.

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部