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基于气敏元件的ZnO薄膜的RF制备及表征
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摘要
本文用RF磁控溅射的方法在Si片上沉积ZnO薄膜,探讨了衬底温度、氧氩比和退火处理和薄膜的结晶速率、结晶质量和电阻率的关系,为沉积符合气敏元件的ZnO敏感薄膜提供研究参考。
作者
李超
机构地区
遵义医学院医学信息工程学院
出处
《山东工业技术》
2018年第18期47-48,共2页
Journal of Shandong Industrial Technology
关键词
ZNO薄膜
磁控溅射
气敏元件
电阻率
分类号
TB383.2 [一般工业技术—材料科学与工程]
TQ132.41 [化学工程—无机化工]
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