期刊文献+

我国半导体SiC单晶粉料和设备生产实现新突破 被引量:1

下载PDF
导出
摘要 近日,在中国电子科技集团公司第二研究所(简称中国电科二所),100台碳化硅(SiC)单晶生长设备正在高速运行,SiC单晶就在这100台设备里“奋力”生长。SiC单晶是第三代半导体材料,以其特有的大禁带宽度、高临界击穿场强、高电子迁移率、高热导率等特性。
出处 《山东陶瓷》 CAS 2018年第3期36-36,共1页 Shandong Ceramics
  • 相关文献

同被引文献7

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部