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新思科技Fusion技术助力三星7LPP EUV工艺降低功耗、缩小面积并提高性能
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摘要
新思科技近日宣布,新思科技Design Platform Fusion技术已通过三星认证,可应用于其7nm低功耗+(LPP-Low Power Plus)工艺的极紫外(EUV)光刻技术。
出处
《中国集成电路》
2018年第8期4-4,共1页
China lntegrated Circuit
关键词
FUSION
光刻技术
低功耗
科技
三星
工艺
EUV
性能
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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中国集成电路
2018年 第8期
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