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40V低压P沟VDMOS产品的设计与工艺研究
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摘要
低压MOSFET具有低导通损耗、快开关速度和高输入跨导的优点,目前在一些便携电子设备中应用十分广泛。本文研究了低压P沟VDMOS产品的设计方法,针对40伏P沟VDMOS产品进行了参数设计和结构优化,利用二维仿真软件ISE-TCAD对器件的电学特性进行了仿真模拟。产品经流片、测试,技术参数达到了设计要求。
作者
丁文华
智晶
刘琦
单长玲
常婷婷
机构地区
西安卫光科技有限公司
出处
《科学技术创新》
2018年第26期170-171,共2页
Scientific and Technological Innovation
关键词
低压P沟
结构优化
仿真模拟
技术参数
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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