垂直式炉管栅氧化工艺的精确控制

随着半导体工艺的发展,器件的速度越来越快,栅氧化层的厚度也越来越薄,因此如何对该工艺进行精确控制成为了保证器件性能的关键。本文主要介绍了在垂直式炉管上如何对该工艺进行管控。