半导体先进制程对废水处理的挑战和对策

2017年以来,国内半导体制造进入28纳米制程量产阶段。很多半导体代工厂因此引入Single Wafer机台,该类型机台所使用化学品量与制程有较大的改变。同时,大陆普遍更重视环保,排放法规有变紧的趋势,这对废水处理部门造成挑战。本文系统介绍了半导体厂先进制程的废水处理新情况,以及相应的对策,供行业内推广和借鉴。