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第三代半导体器件制备及评价技术取得突破
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摘要
以氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)为代表的第三代半导体材料,具备高击穿电场、高热导率、高电子饱和速率及抗强辐射能力等优异性能,更适合于制作高温、高频、抗辐射及大功率电子器件,在光电子和微电子领域具有重要的应用价值.
出处
《河南科技》
2018年第26期4-4,共1页
Henan Science and Technology
关键词
第三代半导体材料
半导体器件
评价技术
大功率电子器件
制备
微电子领域
击穿电场
高热导率
分类号
TN303 [电子电信—物理电子学]
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河南科技
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