摘要
离子注入技术是一种在材料近表面形成埋层纳米晶的一种非常有效的方法。纳米晶的出现使得基体材料具有特殊的物理性质。综述了近几年来利用离子注入技术形成的金属、半导体、磁性材料纳米晶的发展情况及其潜在的应用,并提出了现存的问题。
Ion implantation is a versatile and powerful technique for forming nanocrystalline precipitates embedded in the near-surface region of a wide variety of materials.The host materials that embrace nanocrystals possess exceptional physical properties.This paper reviews the development and potential application of metal,semiconductor,and ferromagnetic nanocystal formed by ion implantaion.and analyzes existing problems.
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2002年第9期46-48,36,共4页
Materials Reports
基金
国家自然科学基金(10175042)
