摘要
研究了用直流磁控溅射技术在 80～ 1 40目的镍基合金微粒表面包覆 1 0μm左右的金属铬膜的方法 ,讨论了工艺的影响和膜的性能 ,指出利用直流磁控溅射技术可在镍基合金微粒表面获得均匀、完整的厚铬膜 。
出处
《新技术新工艺》
北大核心
2002年第9期41-42,共2页
New Technology & New Process
关键词
镍基合金微粒
涂层
直流磁控溅射
铬
Ni alloys particles,coatings,DC magnetron sputtering,chromium
