深刻蚀的利器——ICP
出处
《集成电路应用》
2002年第6期48-51,共4页
Application of IC
-
1杨鑫.有线电视ICP浮出水面[J].互联网世界,2000(10):82-82. 被引量：1
-
2刘多,张雪丽.下一代网络提供业务的方式[J].电信工程技术与标准化,2003,16(8):1-4.
-
3刘云峰,陈国平.亚微米干法刻蚀技术的现状[J].电子器件,1998,21(2):102-108. 被引量：3
-
4李祥,吕军.1.5—2μmMOS干法刻蚀技术[J].微电子技术,1993,21(2):13-21.
-
5李祥.零标记工艺[J].微电子技术,1995,23(6):62-66.
-
6余山,章定康,黄敞.等离子刻蚀二氧化硅[J].微电子学与计算机,1989,6(1):38-40. 被引量：3
-
7曹康敏,汪洋.ICP压电传感器[J].传感器技术,1996,15(6):38-41. 被引量：3
-
8江泽流.微细制版中的干法刻蚀技术研究[J].电子工艺技术,1991(5):11-14.
-
9朱洪亮.干法刻蚀Ⅲ—Ⅴ族化合物半导体材料的最新进展[J].科学通报,1989,34(22):1681-1684. 被引量：1
-
10吴汉明,董大为.感应耦合等离子体（ICP）和电子回旋共振（ECR）刻蚀机的发展概况及比较[J].电子材料（机电部）,1994(12):7-9. 被引量：1
;
