摘要
介绍了MOCVD法的基本原理、生长步骤以及主要优缺点;并以某型号MOCVD设备为例,介绍了其主要结构组成,分析了影响MOCVD工艺的主要因素,结合维修经验总结了MOCVD的常见故障现象以及相应的解决方法 。
This paperintroduces the principle ofM OCVD and the structure ofthe equipm ent,analyzes the factors w hich can affect the process of M OCVD ,and sum m arizes the norm al faults and the corresponding solution.
出处
《电子工业专用设备》
2014年第11期36-40,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
金属有机气相淀积
外延生长
故障分析
MOCVD(Metal organic chemical vapor deposition)
Epitaxial growth
Fault diagnosis
