本刊特邀编委介绍(三)

卢道明，男，教授。1968年台湾成昆大学理学士，1971年乌司特综合工业大学理硕土，1976年威斯康星大学哲学博士。目前任美国罗斯利尔综合工业大学教授、系主任。从事研究不良表面、覆盖层和动态生长面的衍射；表面、界面和薄膜序列；低温薄膜的离子束／局部离子束淀积；微电子和光子应用金属、陶瓷和聚合薄膜的生长及表征。1986年获得罗斯利尔早期发展奖，1988年获得半导体研究公司（SRC）发明奖，1993年获得利罗斯利尔集成电子专科奖；1994年为纽约科学院成员和美国物理协会成员，1995年为美国真空协会成员。曾编辑、出版书刊，发表230篇技术论文，3项专利，130场次全国。