摘要
本文扼要介绍了电子束直写圆片的原理，地形标记的识别，以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术。
In this paper, the principle of electron beam write wafer is discussed briefly dis-tinguish topography mark, and make the technology of wafer mark which is found by the electron beam exposure system.
出处
《微电子技术》
1999年第4期4-8,共5页
Microelectronic Technology
关键词
电子束曝光
直写圆片
地形标记
Electron beam exposure
Topography mark
Write wafer
