基于异构计算的光刻机曝光分系统剂量控制板的分析与设计
摘要
在集成电路制造设备中,投资最大、技术最复杂同时也是最关键的设备是光刻机。本文研究的剂量控制板是光刻机曝光分系统剂量控制模块中重要硬件板卡,也是硅片扫描控制系统与其硬件曝光分系统的接口板。剂量控制是剂量控制板最重要的任务,即当需要执行曝光时,剂量控制板负责控制触发激光并测量脉冲能量值。剂量控制包含复杂的实时并发多任务管理。
出处
《电子制作》
2013年第2X期61-62,共2页
Practical Electronics
二级参考文献13
-
1张兴 黄如 刘小彦.微电子学概论[M].北京：北京大学出版社,2002.17-218.
-
2Patrick Naulleau,Kenneth A Goldberg,Erik H Anderson,et al. Sub 70nm extreme ultraviolet lithography at the Advanced Light Source static microfield exposure station using the engineering test stand set -2[J]. J Vac Sci Technol,2002,B 20(6) :2829 - 2832.
-
3Takaharu Miura. Electron projection lithography too development status[J]. J Vac Sci Technol, 2002, B 20(6) :2622 - 2633.
-
4Takeshi Yamaguchi. Stepper Tool Evolution 4^th International Workshop on High Throughput Charged Particle Lithography[Z]. Hawaii,2000.0-3.
-
5Dennis D Buss. Technolcgy in the Internet Era[A]. Proceedings of SPIE- Optical Mierolithography XIV[C]. Santa Clare: SPIE, 2001,4346: xxi-xxxi.
-
6Seok-Kyun kim, Jong-Gyun Hong, Joo-On Park, et al. Feasibility Study of Printing Sub 100nm with ArF Lithography[A]. Proceedings of SPIE-Optical Microlithography XIV[C]. Santa Clare: SPIE, 2001,4346:214 - 221.
-
7Anthony Yen, Shinn-Sheng Yu,Jen-Hong Chen,et al. Low Kl optical lithography for 100nm logic technologyand beyond[J]. J Vac Sci Technol,2001,B 19(6):2329-2334.
-
8G Vandenberghe, Y-C Kim, C Delvaux,et al. ArF lithography options for 100nm technologies[A]. Proceedings of SPIE-Optical Microlithography XIV[C]. Santa Clare:SPIE,2001,4346:214- 221.
-
9Toshiro Itani. 157nm lithography for 70nm technology node[J ]. Jan J Appl Phys, 2002, 41 (6B) :4033 -4036.
-
10童志义.迈向新世纪的光学光刻[J].电子工业专用设备,1999,28(3):2-9. 被引量：2
共引文献51
-
1孙彬毓.浅析我国手机芯片发展现状[J].中国新通信,2020,22(2):4-5. 被引量：1
-
2张飞,李艳秋.浸没式ArF光刻系统中光学因素对L形图形的影响[J].微细加工技术,2006(3):14-17.
-
3邓习树,吴运新,王永华.光刻机掩模台宏动定位系统的控制器设计[J].微细加工技术,2006(6):22-27. 被引量：3
-
4汤天瑾,曹向群,林斌.计量光栅制造综述[J].光学仪器,2004,26(4):62-67. 被引量：7
-
5杨园园,李小平.基于零部件的FMEA在光刻机研发中的应用[J].电子工业专用设备,2005,34(2):59-62. 被引量：2
-
6王国雄,王雪洁.用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究[J].半导体技术,2005,30(9):24-27. 被引量：1
-
7彭友生,黄海.春风漫卷剪芳菲——记全国档案系统先进集体湖南常德市档案局馆[J].中国档案,2005(10):59-61.
-
8邓习树,吴运新,李建平.光刻机宏动试验运动平台设计及其减振系统仿真研究[J].电子工业专用设备,2005,34(10):24-29. 被引量：4
-
9佟军民,胡松,余国彬.下一代光刻技术[J].电子工业专用设备,2005,34(11):27-33. 被引量：4
-
10吴运新,邓习树,李建平,王永华.光刻机模拟工作台的精密隔振系统方案设计研究[J].制造技术与机床,2005(12):23-26. 被引量：8
-
1Qualcomm和赛灵思合作提供异构计算解决方案[J].中国集成电路,2015,24(11):5-5.
-
2韩霜.Altera Stratix 10 SoC让通用异构计算更上一层楼[J].世界电子元器件,2013(11):52-52. 被引量：1
-
3杨磊.双剑合璧 异构计算成为芯片业趋势[J].IT时代周刊,2012(14):65-67.
-
4AET.AMD、ARM、华为等七巨头结为CCIX联盟[J].电子技术应用,2016,42(6):24-24.
-
5莱迪思半导体宣布推出全新的iCE40 UltraPlus^TM器件[J].中国集成电路,2017,26(1):5-6.
-
6顾晓明.用频谱分析仪测量脉冲调制信号[J].长岭技术,2004(3):22-28.
-
7江鑫.面包式床头话机检修两例[J].家庭电子,2005(10S):39-39.
-
8申海燕.非线性编辑系统在节目制作中的运用[J].青年记者,2010(7Z):137-137.
-
9刘世元,吴小健.步进扫描投影光刻机剂量控制参量优化新算法研究[J].光学学报,2006,26(8):1192-1197. 被引量：1
-
10江来,王仁波.基于Internet的IP电话的应用研究[J].现代电子技术,2008,31(11):176-178.
