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透明导电薄膜ITO对GaN基蓝光发光二极管影响的分析

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摘要 本论文通过正交试验对透明导电薄膜ITO蒸发厚度、退火温度、退火时间及退火时N2流量进行研究,并将制备的透明电极ITO薄膜应用于GaN基发光二极管,分析其对管芯表面电流扩展、ITO与P-GaN欧姆接触电阻的影响,通过优化ITO相关工艺来降低LED工作电压及提高透过率、提高LED发光亮度。通过试验得到优化参数为:ITO厚度250nm,火温度400℃,N2流量30L/min,火时间10min。在优化条件下玻璃片上测得ITO方块电阻约为12Ω/□,透光率达到95%以上,制得的203μm×508μm蓝光LED芯片在直流电流20mA下的正向电压3.18V,光功率为26.11mW。封装成X=0.35,Y=0.35,色温4500K,显色指数75白光后,光通量为7.81lm。
作者 李兴 杨瑞霞
出处 《电子制作》 2014年第3X期33-34,共2页 Practical Electronics
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Hamid Reza Fallah,Mohsen Ghasemi varnamkhasti,Mohammad Javad Vahid.Substrate temperature effect on transparent heat reflecting nanocrystalline ITO films prepared by electron beam evaporation[J].Renewable Energy.2009(7)
  • 2Kow-Ming Chang,Jiunn-Yi Chu,Chao-Chen Cheng.Investigation of indium–tin-oxide ohmic contact to p-GaN and its application to high-brightness GaN-based light-emitting diodes[J].Solid State Electronics.2005(8)
  • 3Kim,Seong-Jin.Improvement of GaN-based light-emitting diode by indium-tin-oxide transparent electrode and vertical electrode[].IEEE Photonics Technology Letters.2005

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