激光化学汽相淀积

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摘要 1.前言激光OVD(激光化学汽相淀积),作为'支撑半导体产业的一种激光技术,其地位尚未确立。但是由于该法具有图案制作高速化特点,例如作为开发大规模集成电路的一种手段,将不断开拓新的市场,因而其实用研究确已开始。本文介绍有关的实用化研究结果。

作者侯印春

出处《国外激光》 CSCD 1991年第5期31-34,共4页

关键词激光CVD 化学汽相沉积

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国外激光

1991年第5期

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