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强束流脉冲Ta离子注入H13钢的背散射分析

Rutherford Back Scattering Analysis of H13Steel Implanted by Ta Ions High Flux Densit ies
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摘要 利用从金属蒸汽真空弧离子源引出的强束流Ta离子,进行Ta离子注入钢的材料改性研究。研究结果表明,在离子注入剂量为5×1017cm-2,平均束流密度为40μA·cm-2,加速电压为42kV下,Ta离子注入能在钢表面形成厚达80nm的合金层。借助卢瑟福背散射(RBS),我们发现表面合金层中Ta的原子百分浓度在15%以上。 Ta ions extracted from a metal vapor v acuum arc ion source were implanted i nto H13steel with various ion flux densi-ties.Ta concentration depth profil e in H13steel was calculated accordi ng to ion range profile and sputterin g theory.Rutherford back scattering showed that the Ta concentration depth profile in H13ste el wider than that of theory calculation.The thickness of alloy layer about 80nm.
作者 杨建华
出处 《南通工学院学报(自然科学版)》 2002年第2期14-16,共3页
基金 江苏省教育厅自然科学基金资助项目
关键词 强束流脉冲 TA 离子注入 H13钢 背散射 钽离子 RBS ion implantation H13steel
  • 相关文献

参考文献7

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