半导体工业的新型氟化学产品
出处
《化工生产与技术》
CAS
2002年第4期30-30,共1页
Chemical Production and Technology
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2王新喜,刘智慧,黄华瑶,张净普,李丹丹,李翔宇.三氟化氯气体合成反应研究[J].舰船防化,2016,0(3):13-16. 被引量：1
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3闫华,贡雪东,罗永锋,武玉红,王大喜,王少龙.三氟化氯和环氧丙烷反应的理论研究[J].化学学报,2009,67(24):2845-2850. 被引量：4
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4孙福楠,于大秋.半导体制造用高纯电子气体新品种的现状[J].低温与特气,2017,35(2):1-3. 被引量：7
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5岩谷产业开发出氟气无等离子的高速硅蚀刻技术[J].有机硅氟资讯,2009(1):7-7.
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