摘要
本文在直流磁控溅射系统中制备了Al-N-F与Al-O-F介质薄膜,确定了它们的光学常数。研制成了以Al-N-F减反射膜的多层渐变Al-N与Al底层的太阳选择性表面,其反射率与吸收率的理论计算与实验测量的结果相符。在单个铝阴极的圆柱磁控溅射系统中往一批玻璃管上沉积了Al-N-F/渐变Al-N/Al选择性吸收表面,其性能优异,制备成本低,具有实用前景。
出处
《中国科学(A辑)》
CSCD
1991年第5期531-537,共7页
Science in China(Series A)
基金
国家自然科学基金