光刻胶聚硅氧烷和硅倍半氧烷树脂的合成

介绍了用于高硅光刻胶的聚硅氧烷和硅倍半氧烷树脂的合成方法。探讨了温度、时间、搅拌等条件对合成结构的影响。该合成方法可操作性强,工艺简单成本较低。合成得到的聚硅氧烷和硅倍半氧烷树脂适合用于光刻胶原料,抗蚀性能非常优异。