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半导体光催化材料的制备及改性
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摘要
半导体光催化剂有很多种制备方法,本文主要介绍磁控溅射法、溶胶-凝胶法和电沉积法。单一的半导体光催化剂存在一定的局限性,限制了其性能。本文研究了利用肖特基势垒和异质结结构对半导体光催化材料进行改性,提高光催化性能。
作者
朱丽
机构地区
苏州大学物理与光电能源学部
出处
《科技风》
2018年第23期31-31,共1页
关键词
半导体光催化
制备方法
改性
分类号
O643.36 [理学—物理化学]
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