摘要
浙江大学杨律仁院士指出集成电路是信息产业的基础、是国家综合实力的重要标志,但目前中国的集成电路主要依赖进口,2017年其进口金额在所有进口产品中排名第一。集成电路主要是建立在硅材料基础上,要解决集成电路进口替代迫切这一问题,就要加大硅材科这一基础材料的研究。纳米级缺陷严重影响极大规横集成电路器件的成品率、可靠性,纳米级缺陷不解决,集成电路就很难实现量产。报告介绍了掺锗硅晶体及其晶体生长技术以及掺锗控制缺陷的基础理论和研究进展。
出处
《中国材料进展》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第9期714-715,共2页
Materials China