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新思科技数字与定制设计平台通过TSMC 5 nm EUV工艺技术认证
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摘要
新思科技(Synopsys,Inc.)宣布,新思科技数字和定制设计平台通过了TSMC最先进的5 nm EUV工艺技术认证。该认证是多年广泛合作的结果,旨在提供更优化的设计解决方案,加快下一代设计的发展进程。
出处
《单片机与嵌入式系统应用》
2018年第12期96-96,共1页
Microcontrollers & Embedded Systems
关键词
设计平台
技术认证
TSMC
EUV
科技
定制
工艺
数字和
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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单片机与嵌入式系统应用
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