期刊文献+

新思科技数字与定制设计平台通过TSMC 5 nm EUV工艺技术认证

下载PDF
导出
摘要 新思科技(Synopsys,Inc.)宣布,新思科技数字和定制设计平台通过了TSMC最先进的5 nm EUV工艺技术认证。该认证是多年广泛合作的结果,旨在提供更优化的设计解决方案,加快下一代设计的发展进程。
出处 《单片机与嵌入式系统应用》 2018年第12期96-96,共1页 Microcontrollers & Embedded Systems

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部