一种针对半导体制造工艺的全面动态取样方案

取样是半导体工艺管控当中重要的一环。一种高效的取样方案能够提供所需的工艺信息、发现缺陷异常、快速改善。随着半导体制造带来的各类工艺风险,采用动态取样的方案来解决所面对的问题是至关重要的。本文提出了一种全面动态取样方案,它能够基于不断变化的工艺风险,通过评估工艺流程的状况、机台情况、工艺不确定性、异常事件信号以及量测机台产能来动态调整取样率。这种取样方案能够快速的侦测到工艺流程的异常,从而更有效的改善工艺表现。