陶瓷大板单摆动式抛光加工工艺研究

Study on Polishing Processing Technic of Ceramic Large Plate with Single Oscillation

本文提出陶瓷大板单摆式抛光加工工艺,分析磨头独立摆动的运动规律,建立磨头摆动正弦波和余弦波运动方程。研究结果得出:陶瓷大板单摆式抛光加工过程中,磨头不仅在固定支撑座上做往复摆动,而且还传播着摆动波。磨头摆动位移是由时间和磨头间距两个因素决定。同时给出了陶瓷大板单摆式抛光加工工艺参数的确定,为陶瓷大板单摆式抛光机的研发提供理论依据。