新型CFC结构对PECVD膜层clean性能提升的研究

随着PECVD设备逐渐老化,上部电极(Diffuser)挂Particle的能力变差,腔室进行Clean时四角的Clean能力降低,Clean时间加长,为保证产品品质,需增加腔室的Clean时间,因此增加了NF3用量和成本,严重的还会导致个别腔室出现四角膜层聚集,影响产品良率和品质。新型CFC(CornerFlowCleaning)装置,其原理是通过气流引导,让更多的NF3气体流向四角,有效增强四角Clean能力,达到降低Clean时间和确保品质的目的。