第二十讲 真空离子镀膜

No.20:Vacuum ion plating

射频离子镀的不足之处是:(1)由于在高真空下镀膜,沉积粒子受气体粒子的碰撞散射较小,绕镀性较差。(2)射频辐射对人体有伤害,必须注意采用合适的电源与负载的耦合匹配网络,同时要有良好的接地,防止射频泄漏。另外,要有良好的射频屏蔽,减少或防止射频电源对测量仪表的干扰。11.2射频放电离子镀中若干问题的探讨11.2.1离化率射频放电离子镀的离化率,约介于直流放电型和HCD放电型之间,射频放电在射频电极和接地的真空室之间进行,射频电极有线圈式、网状电极式等,后者阻抗稳定、匹配方便,放电可在更高的真空度下进行。而且离化率高,反应更充分。在实际应用的装置中,要对线圈的直径、圈数、线圈的形状、位置、导线的直径、材质以及水冷状况等进行仔细的选择和调节,以达到最好的离化效果。