期刊文献+

工作气压对磁控溅射薄膜的影响 被引量:1

Effect of pressure on film prepared by magnetron sputtering
下载PDF
导出
摘要 结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层时调控膜层厚度、透光率等性能提供参考。 Based on the related research reports in recent years,this paper summarizes the effects of working gas pressure changes on the deposition rate,film morphology and surface roughness of the film during magnetron sputtering.It provides a reference for controlling the thickness and transmittance of Mo film and ZnO optical film layer by magnetron sputtering.
作者 杨仲秋 YANG Zhong-qiu(Institute of Technical Physics,Heilongjiang Academy of Sciences,Harbin 150001,China)
出处 《黑龙江科学》 2019年第14期38-39,共2页 Heilongjiang Science
关键词 磁控溅射 工作气压 薄膜 Magnetron sputtering Working pressure Film
  • 相关文献

参考文献7

二级参考文献49

共引文献56

同被引文献6

引证文献1

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部