基于Taylor二阶展开的双线性插值偏角足迹校正技术

依照现行物证摄影的相关规范和要求,相机镜头需垂直于痕迹物证。受到场景制约和痕迹、承痕体性质的影响,垂直拍摄有时无法实现或拍摄效果不佳,偏角摄影能有效解决上述局限性。通过建立透视与图像变形之间的关系,提出基于Taylor二阶展开的双线性插值偏角足迹校正技术。在60°偏角的范围内校正的变形图像种类特征反映一致,细节特征反映基本一致(偏差一般不超过5%)。该校正技术弥补了传统物证拍摄影技术的不足,使拍摄角度不再严格要求垂直于痕迹面,该方法具有一定的应用前景和实用价值。