摘要
石墨烯自发现以来,因其非常优异的电学、热学、光学和力学等性能,在高端电子、能源存储、复合材料等领域有着广阔的应用前景1。为了解决石墨烯的宏量制备和应用问题,自2009年以来,化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法逐渐成为制备高品质石墨烯薄膜的最有效手段之一2。CVD方法制备的石墨烯因其具有质量高、层数可控、可放大性好等特点,近几年被广泛地关注,并取得了迅速发展。
作者
杨金龙
YANG Jinlong(Hefei National Laboratory of Physical Sciences at the Microscale, University of Science and Technology of China,Hefei 230026, P. R. China)
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2019年第10期1043-1044,共2页
Acta Physico-Chimica Sinica
