离子轰击对反应性溅射合成氮化硼薄膜的影响
-
1蓉佳.离子轰击对用rf磁控管反应性溅射和ECRPACVD法沉积的CNx和CNxHy膜的作用[J].等离子体应用技术快报,2000(11):22-24.
-
2贾铁昆,王为民.氮化硼薄膜制备技术研究进展[J].材料导报,2005,19(F11):290-292.
-
3王德真,宫野,马腾才.氩辉光放电中离子轰击阴极的蒙特卡罗模拟[J].计算物理,1993,10(2):215-219.
-
4王震遐,俞国庆,阮美龄,朱福英,朱德彰,潘浩昌,徐洪杰.Ar^+离子束轰击在石墨表面形成六方金刚石纳米晶的研究[J].物理学报,2000,49(8):1524-1527. 被引量:4
-
5Braun,M,刘光钰.离子轰击作为改进各种材料表面性能的一种手段[J].国外核聚变与等离子体应用,1990(4):44-50.
-
6邓金祥,陈光华,严辉,王波,宋雪梅.工作气压对制备立方氮化硼薄膜的影响[J].北京工业大学学报,2002,28(3):378-380.
-
7王金斌,张灿云,钟向丽,杨国伟.常温下脉冲激光沉积氮化硼薄膜研究[J].人工晶体学报,2002,31(5):436-439. 被引量:1
;