二级引证文献10
-
1胡建文,阎冬青,刁美燕,高青,孟永强.NdFeB烧结永磁体化学镀Ni-P的研究[J].热加工工艺,2004,33(6):23-24.
-
2胡建文,马静,刁美艳,阎冬青,高青.钕铁硼烧结永磁体复合化学镀工艺的研究[J].材料保护,2004,37(9):25-26. 被引量：10
-
3胡艳峰,申宏,王岱林.旋进旋涡流量计计量误差分析[J].工业计量,2005,15(3):33-34. 被引量：1
-
4王海林,何庆琳.粘结型Nd-Fe-B永磁体化学镀镍[J].电镀与精饰,1999,21(2):16-18. 被引量：14
-
5龚捷,杨仕清,张万里,王豪才.NdFeB粘结永磁体化学镀镍及对磁性能的影响[J].稀土,1999,20(5):15-18. 被引量：6
-
6龚捷,杨仕清,彭斌,张万里,王豪才.NdFeB稀土永磁材料双层镀NiP/Cr[J].材料工程,2000,28(2):28-30. 被引量：5
-
7张天顺,张兆国,张晶秋,黄重华.TL-5化学镀Ni-P合金在Nd-Fe-B永磁体上的工艺研究[J].腐蚀与防护,2002,23(4):152-154. 被引量：8
-
8储荣邦,王宗雄.Nd-Fe-B永磁体材料上的电镀(Ⅲ)[J].材料保护,2016,49(7):63-70.
-
9张天顺,张晶秋.Nd-Fe-B永磁体化学镀Ni-P合金工艺研究[J].电镀与涂饰,2003,22(3):25-27.
-
10吴秀珍,苏永安,李忠厚,郭丽娜.烧结型钕铁硼永磁体化学镀镍磷合金[J].太原理工大学学报,2003,34(6):716-718. 被引量：1
-
1屠友灿.磁记录技术新的突破——富士通研制成功2Gb/in^21.8in(4.57cm)垂直记录硬磁盘[J].磁记录材料,1993,11(2):60-61.
-
2李显,胡浩权,靳立军,胡树勋.催化剂对神华煤直接液化的影响规律[J].中国科技论文在线,2007,2(12):881-885. 被引量：2
-
3林凌,伊晓东,邱波,方维平.钼镍磷溶液的制备和表征[J].石油学报（石油加工）,2009,25(2):173-177. 被引量：9
-
4陈建华.记忆硬磁盘化学镀薄膜技术进展[J].金属材料研究,1993,19(1):55-60.
-
5王步云.高密度硬磁盘用Ba铁氧体薄膜[J].磁记录材料,1996,14(3):23-27.
-
6孙维平.磁记录技术的新发展[J].信息记录材料,2004,5(1):34-44. 被引量：11
-
7罗河烈.磁记录技术的新进展和展望[J].信息记录材料,1993(1):34-37.
-
8王飞.高矫顽力铁氧体膜的制作及其在硬盘介质上的应用[J].磁记录材料,1996,14(1):26-31.
-
9Comparison of the formation epitaxial graphenes on Si- and process and properties of C-face 6H-SiC substrates[J].Chinese Physics B,2012,21(3):480-483.
-
10赵秀英,赵晶,刘清华,王平军,杜子霞,侯登录.改进的DOK模型对纵向BaFe硬磁盘剩磁性质的研究[J].信息记录材料,2006,7(3):23-27. 被引量：2
;
