氧在微波等离子体辅助CVD低温沉积金刚石薄膜中的作用
被引量:2
二级引证文献8
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1张湘辉,汪灵,龙剑平,常嗣和,周九根.直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜中的晶体类型与特征[J].矿物岩石,2005,25(3):100-104. 被引量:4
-
2熊礼威,汪建华,满卫东,曹菊琴.化学气相沉积光学级金刚石薄膜的研究进展[J].激光与光电子学进展,2006,43(7):22-26. 被引量:5
-
3陈家庆,蔡镜仑.金刚石薄膜的制备及其性能研究概述[J].石油大学学报(自然科学版),1996,20(A00):116-121. 被引量:2
-
4徐勇,陈克巧.国内微波化学应用研究现状及进展[J].上海化工,1998,23(3):56-58. 被引量:9
-
5张维加,雷扬.CVD人造金刚石晶体的异常五重对称现象及研究[J].赤峰学院学报(自然科学版),2010,26(11):12-13.
-
6涂昕,满卫东,吕继磊,朱金凤.光学级CVD金刚石膜的研究进展与应用[J].真空与低温,2013,19(2):63-70. 被引量:3
-
7陈晓虎.人造金刚石薄膜性能,应用及研究现状[J].超硬材料与工程,2000(3):3-7.
-
8黄元盛,罗承萍,邱万奇.化学气相沉积金刚石薄膜的晶体缺陷和杂质[J].中国表面工程,2004,17(1):5-9. 被引量:11
-
1钱勇之.用等离子体辅助的分子束外延法生长GaN[J].有色与稀有金属国外动态,1994(12):1-2.
-
2Peter K.Soltani,DanieI Browet,George M.Storti,朱克正.沉积在光纤面板上的薄膜荧光屏[J].应用光学,1992,13(3):21-25. 被引量:1
-
3张燕陵,宁兆元,任兆杏.室温基底溅射沉积c轴取向ZnO薄膜[J].科学通报,1993,38(7):610-612. 被引量:1
-
4安承武,范永昌,陆冬生,李再光.激光沉积高温超导薄膜的研究[J].华中理工大学学报,1991,19(5):7-11.
-
5王宜荣,谢乐.离子束溅射沉积速率的分布[J].四川真空,1991(4):11-14.
-
6赵嘉学,唐素筠.低温溅射沉积TiN薄膜的实验研究[J].薄膜科学与技术,1993,6(2):151-155. 被引量:1
-
7曹均凯.a—Si:H,a—Si1—xNx:H薄膜的PECVD法淀积[J].四川真空,1992(1):51-53.
-
8膜混合集成电路、MOS 集成电路[J].电子科技文摘,2002,0(2):23-24.
-
9青春.MOCVD法沉积铁电SrBi2Ta3O9薄膜[J].电子材料快报,1996(8):10-11.
-
10杨雄超,程开芳,苏星.淀积增透膜改善8元红外探测器的均匀性[J].激光与红外,1996,26(1):59-60.
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