摘要
光刻胶是电子工业微细加工中不可缺少的一种关键材料.它的发明和应用,促进了半导体集成电路的研制和生产. 第六个五年计划期间,我国从日本等国引进了不少集成电路生产线,所用的光刻胶品种主要是日本东京应用化学公司生产的OMR-83胶.我国于七十年代研究过这种类型的光刻胶,但产品未能达到OMR-83胶的水平.主要差距是性能不稳定,清洁度和批量一致性不能保证,操作宽容度小等.所以,引进的集成电路生产线仍需采用进口的OMR-83光刻胶.
出处
《复旦学报（自然科学版）》
CAS
1987年第1期88-88,共1页
Journal of Fudan University：Natural Science
