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中子照像装置性能和设计专题会议在日本举行
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摘要
由国际中子照像组委会组织的第2届中子照像装置性能和设计专题国际会议于1995年11月12—18日在日本横须贺市召开。会议讨论了如下几个问题。装置设计。
作者
马维超
机构地区
东北师大
出处
《国际学术动态》
1996年第3期27-27,共1页
International Academic Developments
关键词
中子照像装置
性能
设计
专题会议
日本
分类号
TB853.29 [一般工业技术—摄影技术]
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