我国CVD金刚石制备技术再上新台阶

近日,河北省激光研究所研发的直径5英寸CVD金刚石窗口制备技术再上台阶,其产品厚度达到1mm,比之前的0.7mm高出0.3mm。这标志着我国915MHz、75kW的微波CVD金刚石设备基本成熟,实现了赶超国外先进水平的目标。CVD金刚石膜研究已有30余年的历史,不断有新的亮点和新的研究方向出现。纳米(NCD)和超纳米(UNCD)金刚石膜及相关应用研究在相当长一段时间内将继续是国内CVD金刚石膜研究的热点之一。