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PVD镀Al膜工艺研究
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摘要
介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考。
作者
唐云
罗海辉
谭灿健
彭新华
机构地区
株洲中车时代电气股份有限公司
出处
《设备管理与维修》
2020年第1期25-27,共3页
Plant Maintenance Engineering
关键词
PVD
磁控溅射
Al膜
靶材
分类号
TG178 [金属学及工艺—金属表面处理]
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