摘要
泛林集团与阿斯麦(ASML)和比利时微电子研究中心(imec)共同研发的全新干膜光刻胶技术将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。日前,泛林集团(Nasdaq:LRCX)发布了一项用于EUV光刻图形化的干膜光刻胶技术。该项全新的干膜光刻胶技术,结合了泛林集团在沉积、刻蚀工艺上的领先地位及其与阿斯麦(ASML)和比利时微电子研究中心(imec)战略合作的成果,它将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。
出处
《电子工业专用设备》
2020年第1期68-69,共2页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
